四氟化碳是1926年首次制得純凈的，其主要用途是用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑；四氟化碳有時會用作低溫冷卻劑。它可用于電路板的制造，以及制造絕緣物質(zhì)和半導(dǎo)體。

  四氟化碳是無毒的氣體，吸入四氟化碳的后果與濃度有關(guān)，包括頭痛、惡心、頭昏眼花及心血管系統(tǒng)的破壞（主要是心臟）。長時間接觸會導(dǎo)致嚴(yán)重的心臟破壞。

 譜源氣體專業(yè)供應(yīng)四氟化碳，合作多家四氟化碳客戶

  產(chǎn)品純度:99.99~99.999% 
  包裝說明: 47L DOT鋼瓶，鋼瓶尺寸23 × 130cm，316L SS材質(zhì)閥門，閥門型號CGA660；40L高壓無縫鋼瓶，凈重30kg/瓶，瓶頭閥是銅質(zhì)閥門是QF-2，出口螺紋是G5/8
 產(chǎn)品說明: 四氟化碳是不燃燒的無色、無味的壓縮氣體，充裝于四氟化碳鋼瓶中，飽和蒸汽壓約壓力2000 psig。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。