傷者中，距離管道最近的沈某嚴重受傷，正在醫(yī)院接受治療，目前沒有生命危險。其余6人輕度受傷。

本次事故由運輸三氟化氮的管道突然爆炸造成。曉星集團相關人士表示，因為未知的原因，水泵未能正常啟動，發(fā)生了爆炸，現在正在調查事故原因。

當地警方表示，將調查企業(yè)有關負責人是否按程序作業(yè)、是否存在安全管理疏忽等。警方還計劃以涉嫌責任過失或業(yè)務過失致傷等對曉星集團進行處罰。

關于三氟化氮安全：

危險性類別：第2.3類有毒氣體，在空氣中的最高允許含量為29mg/m3。
產品純度: 99.99%~99.995%
產品包裝:47L專用鋼瓶,22kg/瓶;40L專用鋼瓶,20kg/瓶;8L專用鋼瓶,3.4kg/瓶;鋼瓶標準：DOT-3AA, GB5099；閥門：CGA330、CGA640
產品用途:三氟化氮是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分（約25％）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等 離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于 1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術的 發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術，它的需求量將日益增加。
注意事項:如遇有NF3氣體泄露，工作人員要馬上 撤離泄漏污染區(qū)，并盡可能采取措施阻止NF3氣體的進一步泄露。如有工作人員中毒，應立即送往醫(yī)院救治。泄露現場要盡快處理，處理泄露現場的工作人員必須 配戴必要的防毒面具，最好是自給正壓式呼吸器。泄露現場經檢測無危害氣體后方可進入工作人員，泄露容器必須經仔細檢查、維修或妥善處理好后方可繼續(xù)使用。 NF3氣瓶應儲存于陰涼、通風倉庫內，倉庫溫度不宜超過30℃。NF3氣瓶應遠離火種、熱源、防止陽光直射，與還原劑、易燃或可燃物等分開存放。NF3氣 瓶在搬運時要輕裝、輕卸，防止鋼瓶及附件破損。NF3氣瓶的運輸按危險品運輸。運輸時用氣瓶固定架將NF3氣瓶固定好，用汽車公路運輸或用輪船集裝箱運 輸。